16 апреля, когда кран медленно поднялся, первое оборудование для очистки гидрофлуорной кислоты (HF Cleaner), независимо разработанное и производимое Suzhou Jingzhou Equipment Technology Co., Ltd. была поднята на док фабрика. , двигался гладко.
Очистка гидрофлуорической кислоты является ключевым звеном в процессе дисплея. Его эффект очистки напрямую влияет на конечную производительность, эффективность и стабильность структуры устройства и связан с скоростью урожайности конечного продукта. Очистка гидрофлуорической кислоты не только удаляет примеси на поверхности активного слоя, но также пассивирует поверхность, тем самым уменьшая адсорбционную способность примесей раздела. Требования к чистоте поверхности очень строгие и теоретически не позволяют присутствовать каких -либо частиц, ионов металлов или органических клеев. Прикрепленные, водяные пары и оксидные слои требуют плоскостности на атомном уровне на поверхности, чтобы обеспечить надежность процесса процесса после обработки.
Время публикации: май-13-2024